MS 10х10х0,3 mm

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170.00
这些样品通过高温高压(HPHT)合成工艺生长。这些晶片可用于机械、光学、热管理、电化学、辐射探测和量子应用。

晶体取向(偏切角): +/-3°

横向尺寸测量: 按较小侧

激光切缝: 3°

横向公差: +0.2/-0 mm

单面粗糙度Ra: 抛光,Ra < 30 nm({100}面)

双面粗糙度Ra: 抛光,Ra < 30 nm({100}面)

厚度公差: +0.2/-0 mm

厚度尺寸: 0,3 mm

硼浓度 [B]: <800 ppb

氮浓度 [N]: <800 ppb

边缘: 激光切割

边缘特征: < 0.2 mm

边缘取向: <100>边

面取向: {100}面

部门性: 多部门